Atomlithografie

Herstellung von Strukturen integrierter Halbleiterbauelemente mit Methoden der Atomoptik. Wegen der im Vergleich zur Lichtwellenlänge kleineren Materiewellenlänge von Atomstrahlen lassen sich mit der Atomlithografie Nanostrukturen im Bereich unterhalb von 20 nm herstellen, die mit der Fotolithografie derzeit nicht gefertigt werden können. Das Verfahren ist jedoch (noch) nicht zur Massenproduktion von