Gasdiffusionsverfahren (Halbleitertechnik)
Gasdiffusionsverfahren, Gasdiffusionsdotierung, Halbleitertechnik:
mit gasförmigen Dotanten arbeitende Diffusionstechnik zur Dotierung von Halbleitermaterialien (besonders Wafern).
Quellenangabe
Gasdiffusionsverfahren, Gasdiffusionsdotierung, Halbleitertechnik:
Quellenangabe
redaktionell geprüfte und verlässliche Inhalte
altersgerecht aufbereitet im Schullexikon
monatlich kündbar