Ionenstrahlätzen

Ionenstrahlätzen, Trockenätzverfahren der Halbleitertechnologie, bei dem mit hochbeschleunigten Ionenstrahlen nach dem Prinzip der Kathodenzerstäubung auf einem Wafer Strukturen integrierter Schaltungen herausgearbeitet werden können. Durch einen Zusatz reaktiver Gase in die Ionenstrahlen kann die Ätzgeschwindigkeit erhöht werden (chemisch unterstütztes Ionenstrahlätzen, reaktives Ionenstrahlätzen). Im Gegensatz zum nasschemischen Ätzen können beim Ionenstrahlätzen das Unterätzen