Fotoresist
Fotoresist [-rɪzɪst, zu englisch resist »Schicht«] das oder der, -s/-s, Resist [rizɪst], Photoresist [-rɪzɪst], Fotolack, Photolack,
Beschichtung aus organischen Vielstoffsystemen, in der bei Belichtung (z. B. mit UV-Strahlung) chemische Reaktionen ablaufen, die zu einer Veränderung der Löslichkeit führen. Dadurch können Fotoresists beim »Entwickeln« mit geeigneten Lösungsmitteln entweder an den belichteten (Positivresist) oder unbelichteten Stellen (Negativresist) selektiv entfernt werden. – Fotoresists haben für die Erzeugung
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