Verfahren der Lithografie, das zur Abbildung einer Absorberstruktur auf einer Maske Röntgenstrahlung anwendet. Aufgrund der hohen Intensität und der geringen Divergenz wird in der Regel Synchrotronstrahlung eingesetzt. Die Maske besteht aus einer Membran geringer Absorption (z. B. Beryllium), die Absorberstrukturen aus einem Material mit einem hohen Absorptionskoeffizienten (z. B. Gold).