Verfahren der Lithografie, das Licht einer Wellenlänge zwischen etwa 450 nm (Violett) und 200 nm (tiefes UV) verwendet, um eine vorgegebene Struktur in einen Fotolack (Fotoresist) zu übertragen, der als dünne Schicht auf ein Substratmaterial (Wafer) aufgebracht wurde. Bei Belichtung laufen im Fotolack chemische Reaktionen ab, die zu