SOI-Technik (Halbleitertechnik)
SOI-Technik [SOI Abkürzung von englisch silicon on insulator »Silicium auf Isolator«], Halbleitertechnik:
Sammelbezeichnung für verschiedene Verfahren zur Erzeugung dünner, einkristalliner Siliciumschichten auf isolierendem Substrat (z. B. Saphir) oder dünner Isolatorschicht (z. B. SiO2, Si3N4) für Zwecke der Mikroelektronik. Dabei wird die Schicht polykristallin aufgebracht und anschließend durch Zonenaufschmelzen mit einem Grafitstreifenheizer oder durch Laserstrahlbehandlung rekristallisiert. Das bekannteste Verfahren ist SOS (
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