Nanoprägelithografie

Druckverfahren der Halbleitertechnik zur Massenproduktion von Nanostrukturen. Das dreidimensionale Muster der Struktur wird mittels üblicher Lithografie- und Ätzverfahren (Lithografie, Ätzen) auf einem Stempel (z. B. aus Silicium oder Quarz) erzeugt. Die Übertragung des Musters auf ein Substrat erfolgt dann nicht per Belichtung, sondern durch Eindrücken des Stempels in eine